一、产品介绍二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
二、使用方法1.使用前将抛光织物用清水湿透,避免摩擦发热;
2、启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出;
3、喷洒抛光剂时,应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出,3-5秒即可。新织物喷洒时间应相应延长,以使织物有更好的磨抛能力;
4、抛光过程中不断加入适量的清水即可。
三、产品特点1、以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
2、广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。
3、高抛光速率、高纯度,有效减小对电子类产品
四、产品参数